А. Тешабаев, С. Зайнабидинов, И. Каримов, С. Власов, В. Абдуазимов

 
10.5.7. Кремний нитриди қопламаларини ҳосил қилиш. 
Аралаш қопламалар 
SiO
2 
ҳимоя қатламларини баъзи бир ҳолларда қўллаш мумкин бўлмай 
қолади. Бундай ҳолларда кремний нитриди Si
3
Ν
4 
ёки кремний нитриди ва 
оксид комбинацияси қўлланилади. Кремний нитриди анча юқори кимёвий, 
термик 
барқарорликка, 
электрик 
чидамлиликка, 
диэлектрик 
сингдирувчанликка, яхши ниқоблаш ҳоссасига эга. Si
3
Ν
4- 
- SiО
2 
тизимда
кенг 
сонли кимёвий бирикмалар - кремний оксинитридлар ҳосил қилиши мумкин, 
уларнинг ҳоссаларини у ёки бу томонга суриш мумкин. Кенг тарқалган 
бирикмалардан бири Si
2
ОΝ
2. 
Кремний нитриди қатламини яна кремний сиртида вужудга келтириш 
мумкин. Бунинг учун азот (Ν) ёки унинг фаол бирикмалари билан кремний 
нитридланади. Сиртни тўғридан-тўғри нитридлаш қуйидаги реакциялар 
бўйича боради: 
3 Si+2Ν
2
→ Si
3
Ν
4-
,
3 Si+4ΝН
2
→ Si
3
Ν
4 
+6Н
2 
Биринчи реакцияга асосан, кремний нитриди пардасини очиқ най 
усулида 
олиш 
лозим. 
Ишчи 
камерага 
кремний 
пластинкалари 
жойлаштирилади ва у орқали азот (Ν)оқими ўтказилади. Температура 1200
о

---

87 
С ва азот оқими 300 см
3
/мин бўлганда кремний пластика сиртида кремний 
нитриди пардаси ҳосил бўлади. 
Иккинчи реакцияга асосан, кимёвий реакция бўлиши учун температура 
янади юқорироқ бўлиши мумкин. Бу усул технологияда кам қўлланилади. 
Силанни аммиак билан нитридлашнинг кимёвий реакциясини қўллаш 700-
1100
о
С да кремний нитридини олиш имконини беради. Бунда 1/20 нисбатда 
силан ва аммиак (3÷5)·10
3 
см
3
/мин. тезликда водород (Н) оқими билан 
биргаликда кремний пластиналар жойлаштирилган ишчи камера орқали 
ўтказилади.