5 ПОЛУЧЕНИЕ ГЕРМАНИЯ
Восстановление диоксида германия водородом - наиболее распространенный в промышленной практике способ получения Германия.
Суммарная реакция восстановления:
GeO2 + 2Н2 = Gе + 2Н2О;
∆G° = 57500-6.57T, Дж/моль.
При 610 С ∆G =0. В соответствии с этим GеО2 восстанавливается водородом с высокой скоростью при температурах выше 600 °С.
Восстановление протекает в две стадии с промежуточным
образованием монооксида германия:
GеО2 + Н2 = GеО + Н2О;
GеО + Н2 = Gе + Н2О
Так как монооксид германия обладает заметной летучестью при температуре выше 700 С, во избежание потерь восстановление ведут при 650-685 С.
Диоксид германия восстанавливают в двухзонных печах с графитовыми трубами. Диоксид засыпают слоем 40-45 мм в лодочки из высокочистого графита, закрытые крышками, которые продвигаются вдоль труб механическими толкателями. Противоточно в печь подается чистый осушенный водород. Обычно в одной печи совмещают процесс восстановления в первой зоне (при 650-685 С) с последующим получением слитка во второй зоне (при 1000 С). По мере продвижения из второй зоны в холодильник расплав затвердевает. При этом происходит первая стадия его очистки путем направленной кристаллизации.
При высоте слоя диоксида германия 40-45 мм продолжительность восстановления (пребывание в первой зоне) составляет 3-3,5 ч.
При совмещении восстановления с плавкой и направленной кристаллизацией получают слитки германия с удельным сопротивлением в середине слитка примерно 35—40 Ом • см.
6 ОЧИСТКА ГЕРМАНИЯ И ПОЛУЧЕНИЕ МОНОКРИСТАЛЛОВ
Германий, полученный восстановлением высокочистого диоксида водородом, непригоден для применения в полупроводниковой электронике. Об этом можно судить по его удельному сопротивлению, которое обычно не выше 40 Ом • см, тогда как для полупроводниковой электроники необходим германий с удельным сопротивлением 50-60 Ом • см. Таким удельным сопротивлением обладает германий с суммарным содержанием примесей ~10-8-10-9 (по массе), что практически недостижимо при использовании только химических методов очистки.
Необходимая чистота достигается применением кристаллизационных методов. Из германия, очищенного этими методами, затем получают монокристаллы.
Применение монокристаллов позволяет обеспечить стандартность электрических свойств германия. Наличие границ зерен в поликристаллических слитках, а также дефекты в кристаллах и механические напряжения влияют на электрические характеристики полупроводников, нарушая направленный поток зарядов через материал.
В процессе приготовления монокристаллов в германий обычно вводят дозированное количество примеси с целью получения германия с электронной (n-тип) или дырочной (р-тип) проводимостью и определенными значениями удельного) сопротивления.
Таким образом, получение германия с заданными электрическими свойствами состоит из двух стадий:
очистка германия методами фракционной кристаллизации;
получение монокристаллического германия с необходимыми электрическими характеристиками.
Очистка фракционной кристаллизацией
Очистка металлов от примесей фракционной кристаллизацией основана на различии в растворимости примесей в твердой и жидкой фазах и малой скорости диффузии в твердой фазе.
Рис.68. Часть диаграммы состояния в области твердых растворов: а - примесь понижает температуру плавления германия; б - примесь повышает температуру плавления германия; С0 - исходная концентрация примеси; К - коэффициент распределения.
Как видно из рис. 68, в том случае, когда примесь понижает температуру плавления основного металла, первые кристаллы обеднены примесью, и содержание ее будет возрастать в последующих фракциях кристаллов. Если примесь повышает точку плавления металла (менее распространенный случай), первые кристаллы обогащены примесью и ее содержание будет понижаться в последующих фракциях кристаллов.
Степень возможной очистки от примеси зависит от величины коэффициента распределения К = Ств/ Сж, представляющего собой отношение равновесных концентраций примеси в твердой и жидкой фазах. Ниже приведены значения коэффициентов распределения ряда примесных элементов в германии: V « 3-10-7; Мn, Со, Аg, Ni, Рt(1-5)• 10-6-; Fе, Cd, Сu, Аu, Вi, T1(1--4)-10-5; Zn 4-10-4; In, Li, SЬ, Та(1+8) • 1O-3; Sn, Аs, А1, Gа(1,5-8,7) • 10-2; Р 0,12; Si > 1; В 10-17.
Для большинства примесей значения К<1 (они понижают точку плавления германия).
Чтобы использовать рассмотренное выше явление для очистки германия от примесей, применяют два способа фракционной кристаллизации: направленную и зонную (или зонную плавку).
Рнс.69. Схема очистки германия направленной кристаллизацией: 1 - электрическая печь; 2 - кварцевая труба; 3 - графитовая лодочка с германием; 4 - стержень для выдвижения лодочки; х - длина затвердевшей части слитка; L - общая длина слитка.
Направленная кристаллизация. Сущность способа ясна из рис. 69. Германий плавят в длинной лодочке из графита или кварца, которую медленно выводят из зоны высокой температуры (~1000 С.) Плавку ведут в вакууме или в атмосфере защитного газа (водорода, аргона).
В полученном слитке концентрация примеси изменяется по длине. Для примесей, у которых К<1, концентрация будет возрастать по длине слитка, а для примесей, у которых К>1, уменьшаться по длине слитка.
Распределение примеси по длине слитка приближенно описывается уравнением:
Сх = КС0(1-Х/L)K-1
где С0 - исходная концентрация примеси; Сх - концентрация примеси на расстоянии х от начала слитка; L - общая длина слитка; х - длина затвердевшей части слитка; К - коэффициент распределения примеси.
Уравнение выведено в предположении, что К - величина постоянная, диффузия в твердой фазе отсутствует, а в жидкой фазе протекает столь быстро, что во всем объеме расплава концентрация примеси одинакова. В действительности вблизи фронта кристаллизации концентрация примеси в жидкости выше средней. Поэтому реальный (эффективный) коэффициент распределения Кэф>К (при К<1) и КЭФ<К (при К>1), т.е. сдвигается в сторону значений, близких к единице.
1>
Do'stlaringiz bilan baham: |