Академия наук республики узбекистан

Рис. 2.14. Предлагаемая многослойная структура 
На рисунке 
2.14. 
представлена предлагаемая архитектура 
многослойного пакета:
•L1: Подложка на основе никелевого сплава.
87 

---

•L2: Подложка на основе Ni силицирован для лучшего коррозионной 
стойкости и совместимости со следующим слоем, который также
содержит 
Si.
•L3: Связывающий слой Si
-
Al, который может заменить традиционно 
используемого дорогого Pt
-
Al. Градиентная
композиция обеспечивает 
хорошую регулировку коэффициентов теплового расширения.
•L4: Керамический слой служит барьером окисления.
•L5: Тепло барьерный слой снизит теплопроводность и оптимизирует 
скорости охлаждения.
В ионно
-
стимулированной
EB
-
PVD системе используется 6 kW 
электронно
-
лучевой испаритель с отклонением электронного пучка на 270° 
постоянным магнитом и с ускоряющим напряжением 10 kV. Для измерения 
плотности ионного и электронного тока, специальный детектор ионов был 
установлен в положении подложки. Основные данные процесса могут быть 
перечислены следующим образом: вакуум: 10
-5
-5·10
-
6 
mbar; ток эмиссии 
электронной пушки: 15 мА до 400 мА в зависимости от испарившейся 
металла и этапы процесса; потенциал смещения: от 0
до 1000 В. В качестве 
покрытий был выбран: (Ti
-
Al), Si
- 
(Si
-
Al); в качестве подложки
- 
сплав на 
основе никеля 617. Расстояние между поверхностью испарения и подложкой 
составляло
150 мм. Толщины напиленных пленок были измерены с помощью 
прямых анализов поперечных сечений в SEM.
Приспособление
верхнего
слоя
в стек
промежуточного слоя
осуществляется
осаждением
(ZrO
2
+
Al
2
O
3
) и C
-
ZrO
2
на
(Ni
-Al-
Si) подложку
(Рис.2.
14
, Таблица 2.). Анализ полученных результатов показывает, что 
верхний слой
1 
по своему
стехиометрическому
составу
ZrO
2
, все остальные 
слои также соответствуют критериям, определённым выше.