‘zbek ist0n respublikasi oliy va ‘rta maxsus ta’lim vazirligi X. K. Aripov, A. M. Abdullayev

R = klA/NA ,
bu yerda: NA=n sin a — optik tizim ning sanoq aperturasi, A. —
manbaning to ‘lqin uzunligi, k l — litografiya jarayoni xususiyatlariga
bog‘liq koeffitsient. Shunday qilib, ajratuvchanlik litografiyada
qo‘llanilayotgan yorituvchi manbaning to ‘lqin uzunligiga proporsional.
T o‘lqin uzunligi 248 nm ni tashkil etuvchi ultrabinafsha (UB)
n u rla n ish d a n fo y d a la n ilg a n d a m ik ro e le k tro n ik a lito g ra fiy a
ajratuvchanligi 180 nm ni tashkil etuvchi texnologiya (Deep Ultra
Violet (DUV) — litografiya) ga ega bo‘ldi. Bugungi kunda ilg‘or
kompaniyalar manba to ‘lqin uzunligi chuqur UB diapazonida bo‘lgan
(193 nm li) qurilm alardan foydalanm oqdalar. Litografiyaning
ajratuchanligi immers texnikadan foydalanilganda ortadi. Immersion
litografiyada obyektivning tashqi linzasi va kristall orasidan uzluksiz
ravishda yorug‘lik nurini sindirish ko‘rsatkichi birdan katta bollgan
suyuqlik oqib o ‘tadi. Sanoq aperturasi immersion muhit sindirish
ko‘rsatkichiga proporsional bo‘lgani sababli ortadi. Hozirgi zamonda
imm ersion suyuqlik sifatida suv ishlatiladi. Sindirish ko‘rsatkichi
n =1,64-1,8 bo‘lgan suyuqliklardan foydalanish nazarda tutilmoqda.www.ziyouz.com
kutubxonasi
fntoshublon
EUV'
nunihai
13.5-rasm. Optik litografiya sxemasi.
A — ko'pqatlamli Si — Mo o‘ta panjaralar asosidagi ko‘zgu.
D U V texnologiyani alm ashtirishga to ‘lqin uzunligi 13,5 nmli
ekstremal UB sohasidagi litografiya (inglizcha atama Extra Ultra Violet
(EUV) — litografiya) kelmoqda. U 10 nm ajratuvchanlikka erishish
imkonini beradi.
Oddiy sindiruvchi optika to ‘lqin uzunligi 13,5 nm ni tashkil etuvchi
n u rla r bilan ishlay olm aydi, chunki bunday n urlanish barcha
m ateriallarda intensiv yutiladi. Shuning uchun rentgen ko‘zgularini
qaytaruvchi optik tizimlar ishlatiladi. Rentgen ko‘zgular ko‘p qatlamli
tu zilm a la r (o ‘ta panjara) b o ‘lib krem niy asosdagi krem niy —
m olibdendan iborat (13.5-rasm).