Fotoenergetikada nanostrukturali yarimo‘tkazgich materiallar II xalqaro ilmiy anjumani

 
ФОРМИРОВАНИЕ НАНОПЛЕНОК Co И CoSi
2
 НА 
ПОВЕРХНОСТИ Si ПРИ ТВЕРДОФАЗНОМ ОСАЖДЕНИИ
 
А.К.Ташатов
1
, Н.М.Мустафоева
2
, Д.Б.Хакимова
1
 , 
А.М.Санакулова
1
 
1 
Каршиский государственный университет, 100095 Карши, Узбекистан 
2
Каршинский инженерно экономический институт, Карши, Узбекистан 
e-mail: [e-mail]
Многослойные системы на основе 
Si
и силицидов металлов являются 
основными материалами современной микро - нано - и оптоэлектроники. В 
частности, наноструктуры 
MeSi
2
/Si 
перспективны для создания СВЧ-
транзисторов, УБИС, оптических резонаторов, электронных и магнитных 
запоминающих устройств[1,2].
В данной работе мы попытались методом твердофазной эпитаксии 
получить наноразмерные фазы и пленки 
Co 
и 
CoSi
2
/
Si
(111) с использованием 
метода предварительной бомбардировки 
Si
ионами 
Ar
+
и изучить 
зависимость параметров энергетических зон от размеров нанофаз 
Co 
и 
CoSi
2
. 
Для создания зародышей хорошо очищенная поверхность 
Si (111)

---

Fotoenergetikada nanostrukturali yarimo‘tkazgich materiallar

II xalqaro ilmiy anjumani 
 
19-20 noyabr 2021 yil 
256 
бомбардировалась ионами 
Ar
+
с 
Е
0
= 0,5 keV при 
D
=8·10
13
сm
-2
. Затем на эту 
же поверхность при комнатной температуре осаждались атомы кобальта со 
скоростью ~1 ML/min. Увеличение дозы до 2·10
14
сm
-2
приводило к 
появлению дополнительных центров и поверхности кремния до ~30 %.
На рисунке 1 приведены зависимости интенсивности 
I
проходящего 
через образец света от энергии 
hν
, для 
Si (111)
с нанопленкой 
Со 
разной 
толщины 
Ɵ
. Здесь 
интенсивность проходящего света через 
чистый 
Si (111).
интенсивность проходящего света через 
Si (111),
с 
пленкой 
CoSi
2
.
Видно, что при 
Ɵ
=1 ML вид зависимости 
I 
(
hν
) не отличается 
от таковой для чистого 
Si (111). 
Только в области 
hν 
≈ 0,9 - 1 eV наблюдается 
более существенное уменщение 
I. 
По-видимому, скопление атомов 
Со
в 
центрах зародышей пока ещё существенно не влияет на оптические свойства 
Si
. В случае 
Ɵ
=3 ML значение 
I 
резко уменьшается в двух областях 
hν: 
при 
hν
≈0,2 eV и при 
hν
=0,9 eV. Первое уменьшение 
I
связано с наличием на 
поверхности участков покрытых атомами 
Со
, а второе – не покрытых 
Со
участков 
Si
. Экстраполяция правой части кривой к оси 
hν 
дает значение ~0,3 
eV, т.е. 
E
g
этих участков составляет ≈0,3 eV. По формуле
0.4 
0.6 
1.0 
1 
 
2 
3 
0.5 
0.8 
1.0 
1.2 
0.2 
hv, 
eV 
 
4 
Рис. 1. Зависимости 
I
(
hv
) для 
Si (111)
с пленкой 
Co
различной толщины 
Ɵ
(ML): 1-
 Ɵ=
0 (чистый 
Si
); 2-
 Ɵ=
1; 3-
 Ɵ=
3; 4-
 Ɵ=
6.
 

---