Модели и механизмы диффузии
Изучение диффузии ведется в направлении создания на основе экспериментальных данных точных моделей, которые давали бы возможность предсказать протекание процесса диффузии путем теоретического анализа. Конечная цель – возможность расчетным путем определять электрические характеристики изделий электроники на основе задаваемых технологических параметров процесса диффузии.
Диффузионные модели развивались с позиций двух основных приближений:
Теории сплошных сред с использованием уравнений диффузии Фика. Адекватность модели, исходя из диффузионного уравнения Фика и соответственно коэффициента диффузии, контролируется экспериментально путем измерения поверхностной концентрации.
Атомистическая теория, которая принимает во внимание взаимодействие между собственными точечными дефектами (вакансиями и междоузельными атомами) с одной стороны и примесными атомами с другой.
Перераспределение легирующих примесей на границе раздела фаз:
Легирующая примесь, первоначально располагавшаяся в одной части кремния, будет перераспределяться в другую часть до тех пор, пока ее химический потенциал не выровняется по обеим сторонам границы раздела областей, что может привести к сглаживанию профиля концентрации примесей в объеме кремния.
Равновесный коэффициент – отношение концентрации легирующей примеси в Si к концентрации примеси в SiO2. Он определяется экспериментальным путем и может отличаться от равновесного значения и зависит от:
химических потенциалов на границе раздела сред;
кинетики перераспределения примеси в контактирующих слоях;
коэффициентов диффузии;
вида примесей в контактирующих слоях. К основным механизмам диффузии относят:
вакансионный;
прямое перемещение по междоузлиям;
эстафетный (непрямое перемещение по междоузлиям);
краудионный;
диссоциативный.
Бор, фосфор в кремнии диффундируют по вакансионному механизму, элементы первой и седьмой групп периодической системы – по междоузельному.
Рис 9.7. Вакансионный механизм
Диффузия по вакансиям – это такой механизм, при котором мигрирующий атом (примесный или собственный) перемещается на место вакансии, а на его месте в узле кристаллической решетки образуется новая вакансия.
Рис 9.8. Диффузия по междоузлиям
Данный механизм сопровождается переходом мигрирующего атома (как правило примесного) из одного междоузлия в другое без его локализации в узлах кристаллической решетки.
Рис 9.9. Эстафетный механизм диффузии
В отличие от междоузельного механизма диффузии, примесные атомы внедряются в узлы кристаллической решетки, вытесняя при этом собственные атомы в междоузельное пространство.
Рис 9.10. Краудионный механизм диффузии
Данный механизм тесно связан с эстафетным. При этом междоузельный атом, расположенный посередине между двумя узлами решетки, перемещается в направлении одного из них, смещая его из положения в узле решетки. Вытесненный атом становится междоузельным и занимает промежуточное положение в решетке.
Диссоциативный механизм диффузии связан с распадом комплексов молекул и диффузией составляющих их компонент (атомов или ионов) в кристаллической решетке.
Do'stlaringiz bilan baham: |