Фоторезисты с химическим усилением: прорывное направление или тупик

Чистые комнаты
Чтобы увеличить процент выхода годных плат с высоким разрешением, ламинатор должен быть установлен в «чистой» комнате. Процессы нанесения фоторезиста и экспонирования являются наиболее чувствительными к загрязнению. Посторонние частицы между фоторезистом и медью (при нанесении фоторезиста) понижают адгезию и препятствуют экспонированию фоторезиста. Обе эти проблемы могут вызвать разрывы при травлении и короткие замыкания при металлизации.
Частицы размером 15 мкм и более могут вызвать дефекты, так как они слишком велики, оседают на поверхности и поэтому не удаляются при помощи системы циркуляции воздуха в чистых комнатах. Чтобы удалить эти частицы, требуется эффективная очистка фотошаблонов и рам экспонирования.
Перед ламинированием и экспонированием рекомендуется для очистки использовать липкие ролики.
Вакуумная рама
Вакуумные рамы необходимы для самого плотного соединения фотошаблона с поверхностью фоторезиста. Появление маленьких неподвижных интерференционных колец (кольца Ньютона) — единственное доказательство хорошего контакта между заготовкой, фотошаблоном и поверхностью вакуумной рамы. Рамы экспонирования стекло — стекло имеют более высокое разрешение и совмещение. Важно оптимизировать размер рамы и ее рабочую толщину исходя из размера заготовки. Если размеры рамок фиксированы, можно использовать маски-вкладыши для варьирования типоразмеров плат. Обычно толщина маски-вкладыша должна быть немного больше толщины заготовки, покрытой фоторезистом.
Проявление
Условия проявления зависят от состава фоторезиста, точные рекомендации обычно даются в спецификации.
Для фоторезиста Огс1у1 общие условия проявления таковы:
— давление проявителя — 1,5.2,0 бар;
— температура проявителя — 25.32°С;
— концентрация карбоната натрия — 0,7.1,0%;
— концентрация карбоната калия — 0,8.1,1%;
— брэйк-пойнт — 50.60%;
— давление распыления при промывке — 1,2.2,0 бар;
— температура промывки — 15.25°С;
— длина камеры промывки больше половины длины камеры проявления.