Fotoenergetikada nanostrukturali yarimo‘tkazgich materiallar
II xalqaro ilmiy anjumani
19-20 noyabr 2021 yil
294
3.22-расм
3.23-расм. Si2Cu2O кластери молекуляр орбиталини электрон зичлиги
харитаси
Тебранма спектр ва молекуляр орбиталларни (МО) ҳисоблаш учун
ZINDO-1 яримэмпирик усулидан фойдаланилди. 3.220-расмда Si2Cu2O
ячейкали структурани инфрақизил (ИҚ) тебранма ҳаракати спектри
таҳлили
келтирилган.
Электронлар
ҳолатларини
моделлаштириш
ўтказилган, шунингдек Si2Cu2O кластери молекуляр орбиталини
электрон зичлиги ҳаритаси қурилган (3.23-расм). Ҳарита юқори
эгалланган HOMO = - 3 ,948 эВ ва қуйи эгалланмаган LUMO = 3,959 эВ
орбиталлар кўрсатилган контур юзалар шаклида тасвирланган. Бу
Fotoenergetikada nanostrukturali yarimo‘tkazgich materiallar
II xalqaro ilmiy anjumani
19-20 noyabr 2021 yil
295
орбиталлар фарқи
E
g
= 0,003eV га тенг. Бу ютилиш спектрларининг пайдо
бўлиши киришмали сатҳдан ўтказувчанлик сатҳига ўтишини билдиради деб
тахмин қилишиш мумкин . Бу қиймат юқорида электрон спектри олинган
қийматларга айнан мос келади.
ХУЛОСА
Si2Cu2O ячейкасига эга бўлган структура параметрларини сонли ҳисоблаш
натижасида қуйидаги хулосалар қилинди:
Si2Cu2O ячейкали Si панжарасининг электрон спектрлари ўрганилган
ва 3 та спектр кузатилган: 848.84 нм, 1438.41нм, 4097.9 нм. Бу тўлқин
узунликларига мос келувчи электрон ўтишларнинг энергияси мос равишда
0.02 эВ, 0.009 эВ ва 0.003 эВ ларга тўғри келиши аниқланган;
Электрон ўтишлар энергиялари қийматларининг жуда кичиклиги
асосида кремнийдаги кислород ва мис киришмалари ўзаро кимёвий
боғланган электронейтрал ҳолатда эканилиги аниқланган;
Si2Cu2O ячейкали кластерда электронлар ҳолатининг тебраниш
спектрини сонли ҳисоблаш натижасида аниқланган оралиқ қиймати
Eg
=
0,003 эВ га тенг эканлиги аниқланган.
Si2Cu2O кластери молекуляр орбиталини электрон зичлиги ҳаритаси
қурилган. Унга кўра кремнийда ковалент боғланиш билан бир қаторда ионли
боғланиш мавжудлиги кузатилган
ADABIYOTLAR
1.
E.U.Arziqulov, S.N. Srajev., O.S.Ne‘matov, Yo‘ldashev J. Kremniyda
kislorodli komplekslarning hosil bo‘lishi // SamDU ilmiy axborotnomasi,
2017 1-son (101) 183-187 b.
2.
Фистуль В.И. Атомы легирующих примесей в полупроводниках
//Фистуль В.И.-М. : Изд-во физ-мат.лит-ры, 2004.-432 с.
3.
Емцев В.В. Примеси и точечные дефекты в полупроводниках //Емцев
В.В., Машовец Г.В.-М.:Радио и связь,1981.-248 c.
4.
Газов В.М. Физико-химические основы легирования полупроводников
//Глазов В.М., Земсков В.С.-М. :Наука,1967.-371 с.
5.
Фистуль В.И.Физика и химия твердого тела. Т2//Фистуль В.И.-
М.:Металлургия,1995.-320 с.
6.
Ормонт Б.Ф.Введение в физическую химию и кристаллохимию
полупроводников// Ормонт Б.Ф.-М.:Высщая школа,1982.-528 с.
7.
Dash W.C. Copper presipitation on dislocation in silicon. //J.Appl. Phys.
1956, v.27, №10, p. 1193-1195.
8.
Полинг Л. Химия//Полинг Л.,Полинг П.-М.:Мир,1978.-683 с.
9.
CRC Handbook of Chemistry and Physics. Editor David R. Lide, CRC
Press, 2004,2660 pp.
Do'stlaringiz bilan baham: |