“Fizikaning hozirgi zamon ta’limidagi o’rni”. Samarqand 2019-yil 13-14 dekabr.
328
эффективности в PbTe
2
> причем при сравнимых Z концентрация электронов в обоих типах
пленок имеет близкие значения.
Таблица. Параметры пленок PbTe, сконденсированных на полимиде (Т=300К)
Состав
примеси в
шихте
N
Sb,
, N
Bi
10
-19
,
cм
-3
n
H
10
-19
,
cм
-3
,
Oм
-1
см
-1
10
6
,
В/К
2
10
6
,
Вт/смК
2
10
2
,
Вт/см К
Z
10
3
,
K
-1
Bi
2.0
6,0
7,0
15
20
1,1
3,8
4,5
8,0
10,0
650
1100
1900
2500
3200
170
95
90
70
60
18,9
10,0
15,4
12,3
11,5
17
15
14
12
11
1,11
0,71
1,11
1,01
1,01
BiTe
1,7
4,0
6,0
8,0
10,0
20,0
1,7
4,0
6,0
8,0
10,0
20,0
1000
2250
2900
3200
3700
1900
160
100
80
70
60
40
25,6
22,5
18,6
16,0
13,3
3,0
18
17
16
15
14
15
1,4
1,3
1,2
1,1
0,95
0,1
SbTe
2,0
4,0
8,0
40,0
0,15
0,4
1,0
5,0
300
530
2000
1500
270
240
150
100
21,3
28,5
45,0
15,0
18
17
16
15
1,2
1,7
2,8
1,0
PbI
2
-
-
-
-
0,7
0,9
1,2
1,3
250
580
1000
990
220
195
220
215
12,0
22,0
49,0
45,6
19
19
19
19
0,63
1,16
2,55
2,4
Литературы
1. Хейванг В., Биркхольц У., Айнцингер Р., Ханке Л., Кемитер К., Шнеллер А. Аморфные
и поликристаллические полупроводники. Москва: Мир, 1987 г. с. 57-59.
2. Гольцман Б.М., Дашевский З.М., Кайданов В.Н., Коломоец Н.В. Пленочные
термоэлементы: физика и применение. Москва: Наука, 1985 г. с. 236.
3. Азимов С.А., Атакулов Ш.Б. Кинетические явления в поликристаллических пленках
халькогенидов свинца и висмута. Ташкент: Фан, 1985 г. с. 102.
4. Набиев М.Б., Усманов Я., Онаркулов К.Э., Ахмедов Т.А. Технология получения
полупроводниковых материалов для фото и термобреобразователей.// Материалы 3-й
международной научной конференции «Оптические и фотоэлектрические явления в
полупроводниковых микро- и наноструктурах», Фергана, 2014 г. с.331-332.
5. Голованова Н.С., Зломанов В.П., Тананаева О.Н., Личева Л.Д. Легирование кристаллов
теллурида свинца висмутом в процессе выращивания //Изв.АН СССР. Неорг.материалы. 1984
г, Т.20, № 4, с. 574-577.
ИЗУЧЕНИЕ СОСТАВА И ПРОФИЛЯ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ АТОМОВ ПО ГЛУБИНЕ
СИСТЕМЫ Ni–GaP, ПРИМЕНЯЕМЫХ В ФОТОПРЕОБРАЗОВАТЕЛЯХ
А.А. Абдувайитов, Х.Х. Болтаев, Ш. Бахтияров, А. Мавлонов
Ташкентский государственный технический университет, 100095 Ташкент, Узбекистан.
akbaraa@yandex.ru
Известно [1, 2], что для решения ряда технических задач, например в создании устройств
для корреляционной обработки оптических и электрических сигналов широко используются
фоторезистивные плёнки из GaP и CdS. На поверхности таких полупроводниковых плёнок
наносятся контакты в виде полос из благородных металлов (никель, серебро и др).
Полупроводниковые структуры типа Ni–GaP или Ni–CdS и др. создаются путем
последовательного вакуумного напыления (осаждения) отдельных компонентов. Качество и
Do'stlaringiz bilan baham: |