“Yupqa qatlamlar fizikasi va texnologiyaSI”

Tayanch so’zlar
O’sish kinetikasi, yuqori vakuum sharoiti, monokristall, kremniy plyonkasi, asosning yuzasi, silliqlash, shlifovka, polirovka qilinadi, elektropolirovka, distirlangan suv, molekulalar manbasi, ion va elektron to’plari (pushka), fotonlar dastasi, vakuum hosil qiluvchi sistema, vodorod oqimi, temperaturaviy (termik) ishlov, manbadan uchib chiqqan atomlar, o’sish jarayoni, plyonka hosil bo’lish markazlari, angstrm - E, nanometr - nm, mikrometr - mkm, koalessensiya, orolchalar, orolchalar chegaralaridagi kanallar.
Savollar

1. 
   Yupqa plyonkalar olish uchun asoslarga (podlojkaga) ishlov berish usullari.
   
2. 
   O’stirilishning boshlang’ich stadiyalarida ro’y beradigan jarayonlar.
   
3. 
   Markazlarning hosil bo’lishi, koalessensiya, orolchalar vujudga kelishi, orolchalarning bir - biriga qo’shilib ketishini tushuntiring.
   
4. 
   Yupqa plyonka olish qurilmasi.
   
5. 
   Plyonkalar hosil bo’lish markazlari nima? Ularning o’lchamlari qanday?
   
6. 
   O’sish jarayonini tushuntiring.
   
7. 
   Asosni yuqori vakuum sharoitida tozalash qurilmasini tushuntiring.
   
8. 
   Asosni vakuumda tozalash bosqichlarini aytib bering.
   

Adabiyotlar
1. IIq 41-47
Iq 416-421
9-ma’ruza


Reja

1. 
   Molekulyar - nurli epitaksiya (MNE) texnologiyasining asosiy printsiplari bajarishi zarur bo’lgan vazifalari.
   
2. 
   MNE plyonkalarining o’ziga xos xususiyatlari.
   
3. 
   MNE ning afzalliklari va kamchiliklari.
   

MNE TEXNOLOGIYaSINING ASOSIÉ PRINÖIPLARI.
MNE usuli 70-yillardan boshlab yo’lga qo’yila boshladi. Bu vaqtga kelib yuqori vakuum olish (10^-8-10^-10Pa) va yuzalarni yuqori darajada tozalash (ionlar bilan, lazerlar yordamida) imkonlari paydo bo’ldi.
MNE usuli juda toza va yukori vakuum sharoitida sharoitida o’tkazilishi tufayli oldingi usullardan farq qiladi. MNEning spetsifik (o’ziga xos) xususiyatlarga ega bo’lishini ta’minlash uchun bajarilishi kerak bo’lgan vazifalarni sanab o’tamiz:
a) Juda yuqori tozalikdagi va mukammal tuzilishli monokristallardan foydalanish. O’tkaziladigan molekulalarning juda yuqori tozaligini ta’minlash. Bular O’EV (10^-8Pa dan yuqori)da olib boradi.
b) Nisbatan kichik temperaturada o’ta yupqa va tarkibi jihatdan keskin farq qiladigan plyonka o’stirish, bu diffuziyani oldini olish uchun qilinadi.
v) Qatlamma-qatlam o’stirish hisobiga silliq va defektsiz sirtlarni hosil qilish.
g) Molekulalarning tushishini kerakli yo’nalishda boshqarish hisobiga va molekulalarning oqimi tezligini kamaytirish hisobiga qalinligini nazorat qilib bo’ladigan yupqa plyonkalar olish.
d) Murakkab tarkibli plyonkalarning qatlamma-qatlam tizimlarini hosil qilish.