Fotoenergetikada nanostrukturali yarimo‘tkazgich materiallar II xalqaro ilmiy anjumani

Fotoenergetikada nanostrukturali yarimo‘tkazgich materiallar

II xalqaro ilmiy anjumani 
 
19-20 noyabr 2021 yil 
198 
5. 
A.S.Muratov, А.B.Каmаlоv, S. A. Tursinbaev.
Installations for studying the 
strain properties of silicon with nanoclusters of impurity atoms // Science and 
Education in Karakalpakstan. 2021 №2 (17). ISSN 2181-9203. С. 4-7. 
 
 
ОСОБЕННОСТИ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ
АТОМОВ НИКЕЛЯ В КРЕМНИИ 
 
З.Т. Кенжаев
 
Каракалпакский государственный университет, 230112 Нукус, Узбекистан 
е-mail
: 
[e-mail]
 
Основная часть атомов никеля (АН) диффундирует в кремнии 
электронейтральном виде и занимают в основном межузельное положение. 
Максимальня растворимость АН почти на два порядка больше, чем у 
остальных элементов переходных групп. Коэффициент диффузии 
межузельных атомов никеля очень велик, слабо зависит от температуры, и 
примерно равен ~ 10
-5
÷10
-4
cm
2
/c. 
Показано [1,2], что концентрационные распределение элементов 
переходных групп (Mn, Fe, Co, Ni, Zn, Au, Pt) в кремнии имеет аномальный 
характер и не описывается erfc – функцией, и состоит из двух участков. 
Первый участок – приповерхностная, как правило сильно обогащенная 
область, характеризуется резким спадом концентрации (на 2÷3 порядка) на 
глубине порядка несколько микрон, второй участок – объемный – имеет 
практически равномерные распределение примеси в объеме кремния. 
Накопление вблизи поверхности характерно для примесей переходных 
металлов, растворяющихся в решетке кремния как в узлах, так и в 
междоузлиях и диффундирующими либо по диссоциативному (dissociative) 
механизму, либо по механизму вытеснения (kick-out) [3]. 
На работе J. Lindroos et al. [4] показано, что после диффузии Ni при 
Т
=885 

С в течении 20 min, профиль распределения имеет два участка – 
приповерхностная область (~2 μm) с высокой концентрацией 
n
s
~10
20
÷10
21
cm
-
3
и объем с практически однородным распределением АН с концентрацией 
n
Ni
~10
16
cm
-3
. 
Целю экспериментальной проверки параметров приповерхностного 
обогащенного никелем слоя (его появления, концентрации примеси никеля и 
толщины) кремния, была проведена диффузия никеля из металлической 
пленки. В вакууме напылялся слой чистого никеля толщиной 1 µm, в 
условиях достаточно высокого вакуума P~10
-4
тор. в кремниевые пластины 
р
-
типа с удельным сопротивлением ρ=0.5 Ω·cm. Диффузия никеля проводилась 
на воздухе при 
Т
diff
=1200 °С, в течение t=30 min. 

---