Учебно-методический комплекс по предмету наноэпитаксиальные слои и гетеросистемы Ташкент-2022 год. Данный учебный материал предназначен для магистров специальности «Нанотехнология полупроводниковых материалов»


-Тема. Контроль качества пластины и подложки



Download 0,87 Mb.
bet5/22
Sana20.06.2022
Hajmi0,87 Mb.
#685525
TuriУчебно-методический комплекс
1   2   3   4   5   6   7   8   9   ...   22
Bog'liq
УМК эпитаксия (6) (8)

4-Тема. Контроль качества пластины и подложки.
Основными параметрами, определяющими пригодность эпитаксиального слоя для изготовления полупроводниковых приборов, являются:

  • • толщина эпитаксиального слоя;

  • • концентрация носителей заряда;

  • • плотность дефектов структуры.

Толщину эпитаксиального слоя определяют так: вначале осуществляют скалывание пластины поперек полупроводниковой структуры с эпитаксиальным слоем. Затем поверхность скола протравливают в специальных химических травителях, после чего исследуют поверхность скола с помощью оптического микроскопа. Граница эпитаксиального слоя проявляется в виде полосы травления.
Концентрацию носителей заряда определяют методом сопротивления растекания или четырехзондовым методом при последовательном удалении слоев эпитаксиальной пленки. В практике нашли применение три основных способа последовательного удаления слоев: химическое травление, анодирование и ионное травление.
Химическое травление слоев широко применяется в полупроводниковой промышленности. К недостаткам метода можно отнести зависимость скорости травления от температуры травителя, от кристаллографической ориентации образца, а также внесение нарушений в кристаллическую структуру ионно-легированных слоев.
Анодирование поверхности проводят в два этапа. На первом на поверхности образца в растворе электролита при контролируемой плот-
ззз ности тока образуют тонкий слой оксида полупроводника. На второй стадии осуществляют травление оксидного слоя в специальных селективных травителях.
Ионное травление находит все большее распространение в полупроводниковой промышленности. Достоинство метода — его универсальность и высокая скорость травления слоев. Недостаток—внесение нарушений в верхний слой полупроводникового материала.
Дефекты упаковки структуры определяют путем травления его поверхности и наблюдения фигур травления в оптическом микроскопе. Информативность такой методики основана на экспериментально установленном факте, что дефекты упаковки зарождаются на границе раздела слоя и подложки и прорастают через всю толщину эпитаксиального слоя.
Распределение примесей в полупроводнике в последние годы изучают с использованием рентгеновского микроанализа, при котором поверхность полупроводника облучают пучком электронов с энергией 10—30 кэВ и регистрируют характеристические рентгеновские спектры. Глубина анализа в данном методе составляет 1000 А, локальность по поверхности образца — 0,4 мкм.
Присущее кристаллам расположение частиц (атомов, ионов, молекул), которое характеризуется периодической повторяемостью в трёх измерениях.
Ввиду высокой регулярности кристаллической структуры для её описания в целом достаточно знать, где находятся атомы в любой элементарной ячейке (минимальной единице объёма в кристалле). Ячейку выделяют по тому, обладает ли та или иная группа атомов симметрией, то есть меняется ли её форма при повороте. Решетка образуется неоднократным повторением элементарной ячейки.
Всего существует 230 видов симметрий и, соответственно, ячеек. В элементарной ячейке может находиться от одного атома (химические элементы) до ста двух (химические соединения) или ста шести атомов (белки, вирусы).
Наличие кристаллической решетки существенно влияет на свойства кристаллов. Так, из-за того, что между элементарными ячейками всегда будут углы (причем одинаковые), кристаллы могут расти только в определенных направлениях. Именно поэтому, в частности, снежинки вырастают в форме шестиугольников, а не идеальных дисков.
Существование кристаллической решётки объясняется тем, что силы притяжения и отталкивания между атомами равны только при условии периодичности их расположения во всех трёх измерениях.
Представление о дискретности и статичности решетки не следует абсолютизировать. Атомы в ней скорее колеблются возле точек равновесия, чем занимают его неизменно. Кроме того, они могут находиться так близко друг к другу, что провести между ними чёткую границу почти невозможно. А еще аналогичные друг другу с геометрической точки зрения частицы в разных ячейках могут относиться к разным элементам или отличаться по массе.



Download 0,87 Mb.

Do'stlaringiz bilan baham:
1   2   3   4   5   6   7   8   9   ...   22




Ma'lumotlar bazasi mualliflik huquqi bilan himoyalangan ©hozir.org 2024
ma'muriyatiga murojaat qiling

kiriting | ro'yxatdan o'tish
    Bosh sahifa
юртда тантана
Боғда битган
Бугун юртда
Эшитганлар жилманглар
Эшитмадим деманглар
битган бодомлар
Yangiariq tumani
qitish marakazi
Raqamli texnologiyalar
ilishida muhokamadan
tasdiqqa tavsiya
tavsiya etilgan
iqtisodiyot kafedrasi
steiermarkischen landesregierung
asarlaringizni yuboring
o'zingizning asarlaringizni
Iltimos faqat
faqat o'zingizning
steierm rkischen
landesregierung fachabteilung
rkischen landesregierung
hamshira loyihasi
loyihasi mavsum
faolyatining oqibatlari
asosiy adabiyotlar
fakulteti ahborot
ahborot havfsizligi
havfsizligi kafedrasi
fanidan bo’yicha
fakulteti iqtisodiyot
boshqaruv fakulteti
chiqarishda boshqaruv
ishlab chiqarishda
iqtisodiyot fakultet
multiservis tarmoqlari
fanidan asosiy
Uzbek fanidan
mavzulari potok
asosidagi multiservis
'aliyyil a'ziym
billahil 'aliyyil
illaa billahil
quvvata illaa
falah' deganida
Kompyuter savodxonligi
bo’yicha mustaqil
'alal falah'
Hayya 'alal
'alas soloh
Hayya 'alas
mavsum boyicha


yuklab olish