Муаммолари республика илмий-амалий конференцияси материаллари

1-жадвал 
Синтез қилинган шиша намуналаридаги асосий оксидларнинг миқдорлари 
Намунар
ақами 
Оксидлар миқдори, оғир. % 
PbO 
SiO
2
Cr
2
O
3
Mn
2
O
3
Fe
2
O
3
Ni
2
O
3
Шиша ранги 
1 
77,72 
20,92 
1,36 
- 
- 
- 
Тўқ яшил 
2 
77,68 
20,91 
- 
1,41 
- 
- 
Бинафша 
3 
77,67 
20,91 
- 
- 
1,42 
- 
Тўқ жигар ранг 
4 
77,63 
20,90 
- 
- 
- 
1,47 
Яшил 
Таъкидлаш лозимки, PbO - SiO
2
системаси асосида кристаллизация 
жараёнлари орқали нуклеаторли шишакристалларнинг таркиблари олинган. 
Нуклеаторлар гаммаларидан шишакристаллар сифатида анча арзон ва 
топилиши муаммо бўлмаган Сr
2
O
3
, TiO
2
, ZrO
2
ва WO
3
каби оксидлар танлаб 
олинган. Тажриба учун олинган шишаларнинг кристалланиш хусусиятларини 
аниқлаш мақсадида уларни массавий кристаллаш усули билан кристалланишга 
учратилган. Шишаларнинг кристалланиши силитли иситкичлари бор бўлган 
электр печларда олиб борилди. Бунинг учун шиша намуналари 500 - 550°С гача 
қиздирилди. 
Қўлланилган усул кристалланиш жараёнини 3 та тажриба намуналарида 
бир вақтнинг ўзида олиб бориш имконини берди. Тадқиқ қилинаётган 
намуналарни берилган ҳароратда 1 соатдан 4 соатгача вақт мобайнида 
ушланди. Шишаларнинг кристалланиши маҳсулотларини кузатиш натижалари 
(визуал ва микроскоп ёрдамида ўтиб борувчи нур орқали) қуйидаги шкала 
бўйича баҳоланди: кристалларнинг йўқлиги, 0,1 мм қалинликдаги кристалл 
плёнка ҳосил бўлиши, 0,5 мм қалинликдаги кристалл плёнка ҳосил бўлиши, 
юзали кристалланиши, тўлиқ кристалланиши. 
Олинган натижа кўрсаткичлари таркиби церий, неодим ва эрбий 
оксидларидан ташкил топган шиша намуналарининг кристалланиш характери 
бир ҳил эканлигидан дарак беради. Барча ҳолларда ҳам кристалланишнинг 
бошланғич белгилари - 575 ± 25°С ҳароратда, тўлиқ кристалланиш эса, 750°С 
ҳароратда бошланади. 
Шишаларнинг кристалланиш хусусияти олинган маълумотлар доирасида 
кўпгина омилларга боғлиқ бўлади. Улардан асосийлари қаторига шишанинг 
кимёвий таркиби, кўриниши ва бўёвчи миқдори, иссиқлик билан ишлов 
беришнинг ҳарорат режими ва бошқаларни келтириш мумкин. Ушбу холатда 
кристалланиш жараёнини кучайтириш учун шихта таркибига кристалланиш 
нуклеаторлари сифатида- WO
3
қўшимчасидан 1% дан 9% гача бўлган миқдорда 
қўшиш орқали тажриба ишлари олиб борилди. 
Ушбу тадқиқот ишида синтез қилинган шишалар турли ҳарорат ва 
чидамлилик режимларида, бир ва тўрт соат давомида кристалланганлиги 
аниқланган. Иссиқлик билан ишлов бериш вақтининг 1 соатдан 4 соатгача 
ўсиши кристалланиш жараёнининг янада тезлашишига ёрдам бериши 
кўрсатилган. 

---

273