Elektronika va avtomatika

3- bosqich. Fotoshablon va niqobni tayyorlash. Topologik chizma asosida
fotolaboratoriyada miniatyur fotoshablonlar tayyorlanadi, ularni o’lchamlari
mikrosxema o’lchamiga mos keladi. Fotoshablonlar fotoplastinkalardan ishlanadi,
ularni joylashtirish xususiyati 400/mm tartibida bo’ladi. Ularning asosida niqoblar
(trafaretlar) tayyorlanadi. Ular orqali zarur ashyolar changlatiladi. Niqoblarga asos
sifatida nikellangan mis falgadan zanglamaydigan po’latdan, bronzadan va
boshqalardan ishlangan falgalardan foydalaniladi. Niqobdagi kerakli rasm asosni
elektron nur yoki kislota bilan kuydirib olinishi mumkin. Eng ko’p tarqalishga
ikkinchi usul erishdir. Asosni kuydirib rasmni olishda fotolitografiya usulidan
foydalaniladi. Bu jarayonda yoriqlikka sezgir bo’lgan polimer metal fotorezistdan
foydalaniladi. Asosga niqob fotorezistni yuqa qatlami bilan qoplanadi.
Quritilgandan keyin ularga fotoshablon ultra binafsha nur yordamida qo’yiladi,
uning yordamida fotorezist polimerlamadi, eksponirlash o’tkaziladi. Shundan
so’ng asos kislota yordamida kuydiriladi. Polimerlashgan fotorezist bilan
himoyalanmagan qismlar kuydirib yuboriladi, natijada kerakli rasm paydo bo’ladi.
Polimerlashgan fotorezist organik erituvchi bilan yuvib yuboriladi. Plyonkali
mikrosxemalar niqob ko’p marta ishlatilishi mumkin.