|
2.4. Uskunaning texnik xavfsizligi
Yangi qurilmani etan pirolizi uchun qo’llash mumkin va trubali reaktorga karaganda etilen chiqishi 1,8-2,0 barobar ko’p.
Plazmani nazariy va amaliy urganish natijasida uni kimyo sanoati ҳam qo’llash mumkinligi aniklandi va plazma kimyosi texnologiya deb nom oldi.
Agar, temperatura 97000S dan oshsa, atomlar plazma ҳolatida bo’ladi. Ma’lumki, moddalar atomi va molekulalari 8300S da kuchli elektr yoki magnit maydoniga joylashtirilsa, unda ҳam plazma ҳolatida bo’lishi mumkin.
Shunday kilib, plazma ҳolatini olish uchun maxsus qurilmalar kerak.
Plazma 2 xil bo’lishi mumkin: past va yukorpi temperaturali. Agar, ion zarrachalarining temperaturasi 103-104 0S bo’lsa, u past temperaturali plazma deyiladi. Agar, ion zarrachalarining temperaturasi 105 0S dan ko’p bo’lsa, u yuqori temperaturali plazma deyiladi.
Zamonaviy plazma generatorlari bosim bir necha Paskaldan megapaskalgacha bo’lganda istalgan gazdan plazma olish mumkin. 1 sm3 da zaryadlangan zarrachalar soni 107-1017 bo’lganda temperaturasi absolyut nolga yaqin temperaturadan bir necha un ming gradusgacha gaz temperaturasini uzgartirish mumkin. Plazma okimchalari tezligini sekundiga nolga yaqin sondan bir necha kilometrgacha uzgartirish imkoni bor.
Gaz okimi tezliklari yuqori bo’lgani uchun yuqori temperaturali va tezlikli kimyoviy reakstiyalar utkazish mumkin.
Moddaning plazma ҳolati maxsus plazma generatorlarida olinadi. Uzgarmas va uzgaruvchan tokli elektr yoyli plazmatron eng keng tarqalgan generatorlardir. Bu turdagi plazmatron elektrod (1), razryad kamerasi (3) va gaz o’zatish qismlardan tarkib topgan Anod va katod orasida yonib turgan yoy «V» dan gaz utganda, anod-soplosidagi teshiklardan plazma okimchasi bo’lib okib tushadi. Bo’shlikda yoy ustunini turgunlashni kamera devori (3) va soplolar ta’minlaydi. Yoki gaz devorga nisbatan tangenstialyunalishda kiritilsa ҳam, yuqorida kayd etilgan natijaga erishish mumkin. Yoy uzunligi gaz tezligiga va anod soplosida shuntlashga bog’liq. Boshqa turdagi plazmatronlarda elektrodlarni sekstiyalash va ularning bir qismini elektr manbaiga ulash yuli bilan yoy uzunligining zarur kiymatini urnatish mumkin (4.49b-rasm). Undan tashqari, yoy uzunligi keskin kengayuvchi soplolar kullab chegaralash mumkin.
Plazma ҳosil kiluvchi gazlar sifatida argon, azot, kislorod, ҳavo, suv bug’i, ammiak, tabiiy gaz, uglerod mono- va dioksidlari, galogenlar qo’llaniladi. Ko’pincha yoyli plazmatronlarda olingan plazma elektrod eroziyasi tufayli uning mayda zarrachalari bilan ifloslanadi.
Bu ҳolni bartaraf qilish uchun elektrodsiz yuqori chastotali indukstion (VCh-I), xajmiy (VCh-E) va o’ta yuqori chastotali (SVCh) plazmatronlar ishlatiladi.
Plazma-kimyoviy jarayon prinstipial sxemasi an’anaviy kimyo texnologiya jarayonlaridan katta fark kilmaydi.
Odatda, xom-ashyo va plazma plazmatronga aloxida-aloxida o’zatiladi. Shuning uchun, birinchi navbatda xom-ashyo va plazmani yaxshi aralashtirish , ya’ni molekulyar darajadao’zaro sifatli kontakt bo’lish kerak. So’ng esa, reakstiya boshlash maksadga
muvofik. Shunday kilib, gazsimon fazalar uchun plazmo-kimyoviy reaktor ikki elementdan iborat – aralashtirgich va reaktorlardan.
Reaktor ichki qismi konus shaklida bo’lishi, aralashish jarayoni samaradorligini oshiradi. Bunday qurilmalarda kondensat chiqishi oson va devor yuzasida kondensat miqdori yigilishi kamayadi. Xom-ashyoni suyuk tomchi yoki gaz okimida qattiq zarracha ҳolatida plazma okimchasiga yuborish asosan karama-karshi yunalishli reaktorlarda amalga oshiriladi (5.35 b-rasm).
Reaktor konussimon qobiq (1) va uning tepa qismida qattiq faza yuklash moslamasi (3) lardan tarkib topgan. Qurilmaning pastki qismiga elektr yoyli plazmatron (4) o’rnatilgan. Plazma yoyi soplo (6) orqali reaktorning pastki qismiga yunaltiriladi. Jarayonning gazsimon maҳsulotlari kiritilgan mayda dispers zarrachalarni isitadi va separator (2) dan utgandan keyin reaktordan chiqariladi.
Reakstiyaning boshqa maҳsulotlari reaktor va soplo devorlaridan bunker (5) ga okib tushadi.
Reaktor kamchiliklari: yuqori temperaturali plazma okimchasi kiradigan qismida temperatura maydoni bir xil emas. Qurilmadan chiqayotgan gaz tarkibida kimyoviy jarayonning u yoki bu maҳsulot bor.
Plazmo-kimyoviy jarayonlarni qo’llash soxalar muntazam ravishda kengayib bormokda. Ҳozirgi kunda, kimyo, metallurgiya, elektronika, elektr kimyo sanoatlarida muvaffakiyatli kullanilmokda.
Shunday kilib, plazmo-kimyoviy jarayonlar va ularning texnologik va qurilmalar bilan jixozlanishi kimyoviy texnologiya rivojlanishida yangi perspektiv qadamdir.
Xulosa
Yerda vodorodning umumiy massasining taxminan 10% ni tashkil qiladi. Buning ma'nosini tasavvur qilish uchun sayyora yuzasi deyarli okeanlar bilan qoplangan va barcha tirik mavjudotlarning bir qismi bo'lishdan tashqari, minerallar, xom neft va har qanday organik birikmalar tarkibida vodorod borligini tasavvur etish yetarli.
Uglerod singari barcha biomolekulalarda (uglevodlar, oqsillar, fermentlar, DNK va boshqalar) vodorod atomlari mavjud. Shuning uchun uni qazib olish yoki ishlab chiqarish uchun ko'plab manbalar mavjud; ammo, ularning oz qismi haqiqatan ham foydali ishlab chiqarish usullarini ifodalaydi.
Vodorodning o'zi raketa yoki kosmik kemalar uchun juda yaxshi yoqilg'idir, chunki uning oz miqdori kislorod bilan reaksiyaga kirishganda juda ko'p issiqlik yoki energiya chiqaradi.
Kichikroq miqyosda bu reaktsiya vodorod xujayralari yoki batareyalarni loyihalash uchun ishlatiladi. Biroq, bu hujayralar ushbu gazni to'g'ri saqlay olmaydigan qiyinchiliklarga duch kelmoqda va vodorod yoqilg'isidan butunlay mustaqil bo'lish muammosini keltirib chiqaradi.
Ijobiy tomoni, yoqilg'i sifatida ishlatiladigan vodorod faqat suvdan ishlab chiqariladi. Shu sababli ham, atmosfera va ekotizim uchun ifloslanish vositalarini hosil qiluvchi gazlar o'rniga, kislorodni ajratib chiqaradi.
Vodorod yoqilg`isi kelajagning o`ziga xos yonilg`I turi sifatida e`tirof etiladi. Bunga albatta hammaning fikri turlicha. Kimdur Elon Mask singari bu g`oyani ahmoqona deb baholasa, ayrimlar Honda va Tayota kompaniyalarining
Do'stlaringiz bilan baham: | 
