Z. M. Bobur nomidagi andijon davlat universiteti

Magnitli plazma-dinamik tezlatkichlar. 

Elektrodsiz  bo’lib,  tashqi  magnit  maydonli  va  hususiy  magnit  maydonli 

plazmali tezlatkichlarga bo’linadi.  

Induksionli  va  yuqori  chastotali  tezlatkichlar  hozirgi  kunda  tehnologik 

jarayonlarda  kam  qo’llanilmoqda.  Solenoiddi  ichida  hosil  bo’lgan  magnit  maydoni 

bir nuqtada hosil bo’lmay yoyilishiga olib keladi. 

 

 

 

 

 

 

 

---

4.2.Plazmatronlar. 

Turli parametrli plazma oqimini hosil qiluvchi qurilmalar ikki sinfga bo’linadi. 



  Plazmatronlar. 



  Plazmali tezlatkichlar. 

Turli  xil  tehnologik  jarayonlar  uchun  zarrachalar  oqimini  hosil  qiluvchi 

qurilmalar  uchun  2.1  sxemada  tezlatuvchi  qurilmalarning  klassifikatsiyasi  berilgan. 

Plazmadagi  ionlar  konsentratsiyasini  ularning  energiyalari  bo’yicha  turli  hil 

qurilmalardagi  qiymatlari  keltirilgan.  Gazodinamik  elektr  jihatdan  neytral  bo’lgan 

yuqori zichlikdagi va kam energiyali neytral oqimlarda qo’llaniladi.  Elektr maydoni 

yordamida  zarrachalarni  tezlatish  yuqori  energiyali  bir  zaryadli  zarrachalarni 

oqimdagi hajmiy zaryadning cheklanishida amalga oshiriladi.   

Oqimdagi 

zarrachalar 

konsentratsiyasi 

yuqori 

bo’lganda 

tezlatish 

plazmatronlarda va plazmali tezlatkichlarda amalga oshiriladi. 

Plazmatron  shunday  qurilma  bo’lib,  unda  past  temperaturali  plazma  tashqi 

manbaning  elektr  energiyasi  ishchi  moddani  ionlashtiradi.  Plazmatronlarda  hosil 

qilingan  plazma  temperaturasi  10

5

  K  dan  ortmaydi,  zarrachalar  tezligi  10

4

  m/s  dan 

kichik,  bitta  nuklonga  to’g’ri  keluvchi  energiya  10eVdan  kichik  bo’ladi. 

Zarrachalarning  yuqori  darajada  zichligi  uning  quvvatini  10  MWt  gacha  yetkazish 

mumkin.  

Plazmali  tezlatkichlar  shunday  qurilmalarki,  ularda  hosil  qilingan  plazma 

oqimida  bir  nuklonga  to’g’ri  keluvchi  energiya  10eV  dan  katta  plazmadagi 

zarrachalar 

tezligi 

10

5

 

m/s 

dan 

yuqori 

bo’ladi. 

 

Plazmatronlar  ma’lum bir energiyali plazma oqimini hosil qiluvchi qurilma 

bo’lib, laboratoriya va tehnologik jarayonlar uchun XX asrning 50-yillaridan 

---

qo’llanila boshladi va yuqori oqimli gaz razryadlarini hosil qilish va ularni issiqlik 

himoyasidan iborat. 

 

Tehnologik jarayonlarda asosan yoyli va yuqori chastotali plazmatronlar 

qo’llaniladi.