Влияние режимов ионно-плазменного напыления на структуру и свойства износостойких покрытий

2.1.2.4 Модификация поверхности резины
Для формирования нано- микроструктур на поверхности резиновых образ-
цов и использовали установку для напыления покрытий VSM-200, ADVAVAC 
(Канада), позволяющей осуществлять напыление тонких покрытий металлов (в 
частности: Ti, Cr, Au, Mo) и покрытий неметаллов (TiO, SiO
2
, другие оксиды и 
диэлектрики). Вакуумная установка VSM является универсальной напылитель-
ной установкой, возможна реализация магнетронного распыления с одного или 
нескольких магнетронов.
Напыление происходило «снизу-вверх»: магнетроны расположены внизу, 
подложкодержатель – наверху, на который размещали образцы резины для 

---

63 
напыления. Чистку подложек производили ВЧ плазмой. Система нагрева со-
стояла из блока нагревателей типа ТЭН (мощностью 2-3 кВт), осуществляли 
нагрев до необходимой температуры, и возможно вплоть до 250 °С, поддержа-
ние заданного значения температуры в технологическом процессе по обратной 
связи через термопару. Система подачи технологических газов построена на ба-
зе регулятора расхода подачи газа, работающего по вязкостному принципу (не 
тепловой), что обеспечивало высокую надежность работы, не инерционность 
(что важно для обеспечения требуемого потока газа при работе магнетрона). 
Регуляторы устанавливали со встроенной калибровочной таблицей на газ аргон 
(Ar). 
Контроль толщины покрытий осуществляли кварцевым датчиком, под-
ключенным к монитору измерения толщины STM-2XM (производство Sycon, 
США). На дисплее монитора отображалась текущая скорость напыления и 
толщина покрытия. 
В диссертационной работе использовали метод ионно-плазменного моди-
фицирования магнетронного распыления. Принципы ионно-плазменного напы-
ления и магнетронного распыления изложены в [110,111,112] соответственно. 
Структура напыленных покрытий зависит от свойств материала, состояния и 
температуры поверхности, скорости напыления их на поверхность, образование 
и рост зародышей, формирование покрытия.