Universum

Figure 1. Current-voltage characteristics of ohmic contacts of Ta/Ti/Al/Ni/Au (a)  

and Ti/Al/Ni/Au (b) metallization systems 

 

The  results  obtained  demonstrate  the  prospects  of 

using metallization with the addition of tantalum, as well 

as the technology of sub-alloying. The higher value of 

the specific contact resistance of metallization with sub-

alloying  is  explained by  an  insufficient  increase  in  the 

level of doping of the active layer due to incomplete ac-

tivation of the impurity. The current-voltage character-

istics of the instrument structures are shown in Fig. 2 and 

3. 

 

---

№ 5 (86)                                     

                                 май, 2021 г. 

 

94