Plazma xususiyatlari va farqi

Plazma yoki plazma oqimining moddalarga ta’sirini asosiy hususiyatlaridan biri bir vaqtda turli ishorali va turli xil massali zaryadli zarrachalar neytral zarrachalar va elektron zaryadiga karrrali bo’lgan musbat ionlarning ta’sirlari hisoblanadi. Qaralayotgan ta’sirni (plazma oqimini moddalarga ta’siri) yana bir hususiyati (kichik energiyali zarrachalar oqimini boshqarishning qiyinchiligi) hozirgi kunda qo’llanilayotgan bir hil ishorali zarrachalar oqimini boshqarishga qaraganda qator qiyinchiliklar tug’diradi.ya’ni bir xil ishorali zarrachalar oqimini yo’nalishini boshqarish uchun elektr hamda magnit maydonlaridan foydalaniladi. Bir xil ishorali zarrachalarga ta’sir qiluvchi Lorens kuchi yo’nalishi bir xilda bo’ladi. Plazma oqimiga ta’sir qiluvchi Lorens kuchining yo’nalishi zarrachalarning ishorasiga qarab turlicha bo’ladi. Bu esa plazma oqimini boshqarishda qator muammolarni keltirib chiqaradi.

Plazma oqimining moddalarga ta’siri turli jarayonlar ta’sirida kompleks harakterga ega. Plazma oqimining moddalarga ta’siri bir vaqtning o’zida turli ishorali va massali, turli xil zaryad va enargiyali zarrachalar ta’siri murakkab jarayon hisoblanadi.

Plazma oqimining qattiq jismlarga ta’siri qator hodisalar bilan kuzatiladi. Bular quyidagilardan iborat:

Plazma oqimi ta’sirida qattiq jismning qizishi;

Plazma oqimi ta’sirida qattiq jismning yuqori qatlamini olib tashlanishi;

Qattiq jism sirtini plazma moddasi bilan qoplanishi;

Qattiq jism sirdida ximik o’zgarishlarni vujudga kelishi.

Keng qo’llaniladi. Bu va boshqa tehnologik jarayonlarda birinchi navbatda joyini qizdirish muammosi turadi.

Sirtni qoplashda.

Svarkada.

Materialni qirqishda.

Sirtni tozalashda.

Plazma yordamida materialni qizdirish turli tehnologik jarayonlarda jumladan:

Plazmaning issiqlik ta’siri.

Yuqorida sanab o’tilgan jarayonlarning qanchalik effektiv ro’y berishi plazma yoki plazma oqimining harakteristikalari bilan belgilanadi.

Bulardan tashqari ma’lum bir sharoitlarda qattiq jism sirtida plazma ionlarini joylashishi kuzatiladi.

Plazma tarkibida yuqori aktiv zarrachalarni bo’lishi yuqori energiya isrofini, yuqori temperaturani va yuqori ionlanish darajasini talab qilmaydi. Bunday moddalar plazma tarkibidagi gaz atomlari va molekulalari bo’lishi mumkin.

Molekula tarkibida atomlar ajratish uchun kerak bo’lgan energiya bog’lanish energiyasi deyiladi.

Vodorod uchun 4,5 eV

Kislorod 3,2 eV

Xlor 2,5 eV

Ftor 1,6 eV

Bog’lanish energiyasi ionizatsiya jarayonida o’zgarishi mumkin. ( vodorod 2,7 eV, kislorod 6,7 eV). Kimyoviy reaksiya tezligi zarrachalar hosil bo’lish tezligidan yuqori bo’ladi.