Microsoft Word уп-пленки doc

ЛИТЕРАТУРА 
 
1.Грибков В.А., Григорьев Ф.И., Калин Б.А., Якушин В.Л. Перспективные 
радиационно-пучковые технологии обработки материалов. – М.: Круглый 
год. 2001. – 528 с. 
2.Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения 
тонких пленок. – М.: Энергоатомиздат. 1989. – 328 с. 
3.Данилин Б.С., Сырчин В.К. Магнетронные распылительные системы. – 
М.: Радио и связь. 1982. – 72 с. 
4.Ивановский Г.Ф., Петров В.И. Ионно-плазменная обработка материалов. 
– М.: Радио и связь. 1986. – 232 с. 
5.Плазменная технология в производстве СБИС. / Под ред. Н.Айнспрука, 
Д.Брауна. Пер. с англ. – М.: Мир. 1987. – 470 с. 
6.Ткачук Б.В., Колотыркин В.М. Получение тонких полимерных пленок из 
газовой фазы. – М.: Химия. 1977 – 216 с. 
7.Аверкин С.Н., Кошкин В.В., Орликовский А.А. и др. Мультипольный 
источник СВЧ-плазмы с распределенным электронным циклотронным 
резонансом для плазмохимического осаждения диэлектрических пленок. // 
Труды ФТИАН. 1994. Т.8. С.16-21. 
8.Кукушкин С.А., Осипов А.В. Процессы конденсации тонких пленок. // 
Успехи физ. наук. 1998. Т.168. Вып.10. С.1083-1116. 
9.Маишев Ю.П., Шевчук С.Л. Ионно-лучевая обработка: осаждение тонких 
пленок из низкоэнергетичного пучка ионов. // Труды ФТИАН. 2005. Т.18. 
С.148-160.

---

35
ОГЛАВЛЕНИЕ 
ВВЕДЕНИЕ…………………………………………………………………….3
Глава 1. ФОРМИРОВАНИЕ 
ПЛЕНОК 
МАТЕРИАЛОВ 
В 
ПРОЦЕССАХ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ……………...3
1.1.Характеристика процесса ионно-плазменного нанесения………………3 
1.2.Распыление материала мишени…………………………………………...4 
1.3.Перенос распыленного материала в пространстве мишень-подложка…8
1.4.Осаждение материала на подложке……………………………………...10 
1.5.Загрязнение пленок материалов, полученных ионно-плазменным 
нанесением…………………………………………………………………….12 
1.6.Ионное осаждение материалов…………………………………………..14 
1.7.Реактивное ионно-плазменное нанесение материалов…………………15