«Биохилма-хилликни сақлаш ва ривожлантириш» Республика онлайн илмий-амалий анжумани
Гулистон 2020 й. 17-18 апрель
217
qoplamalar, quvurlar yasashda ham foydalaniladi. Kimyo sanoatida kimyoviy
qurilmalar va katalizatorlar tayyorlashda ishlatiladi.
Oqava suv va tuproq og'ir metallar bilan ifloslanishi, ularning tirik mavjudotga
zararli ta'sir qilishi katta tashvish tug'diradi [1]. Boshqa og’ir metallarga
solishtirilganda nikel (Ni) va uning birikmalarining o’rtacha zaharlidir. Ammo, nikel
va uning birikmalarining ortiqcha miqdori nafas olish organlarida jiddiy
muammolarga, jumladan, nafas organlari saratoni kasalligining kelib chiqishiga
sabab bo’ladi [2]. Ni (II) ionining yuqorida keltirilgan xususiyatlariga ko’ra uni
yuqori samarali va selektiv usullar bilan tahlil qilishni talab etadi. Hozirga qadar Ni
(II) ionini aniqlashning turli analitik usullari ko’p bo’lib, misol sifatida alangali atom-
absorbsion, plazma optik emission spektrofotometrik, mass-spektrofotometrik kabi
usullarni keltirish mumkin [3]. Ular orasida ultrabinafsha va ko’rinuvchi sohaga
asoslangan spektrofotometrik usul eng ommaviy, qulay, sodda va arzondir.
Adabiyotlardan ma’lumki, nikel va boshqa metallarni aniqlash uchun ko’plab organik
reagentlar e’tirof etilgan, lekin ularning ayrimlari yuqori sezgir, tanlovchan va
selektivdir. Shu sababli nikel (II) ni aniqlashni yuqori sezgirlikka va tanlab ta’sir
etuvchanlikka ega bo’lgan yangi aniqlash metodlarini ishlab chiqish dolzarb
muammo hisoblanadi. Ushbu ishda Ni (II) ni fotometrik aniqlash maqsadida 1-(2-
piridilazo)-2-naftol(PAN) reagenti bilan rangli kompleksining hosil bo’lish optimal
sharoitlari: pH ga bog’liqligi, nur filtrini tanlash, komponentlarning qo’shilish
tartibini aniqlash, reagent miqdoriga bog’liqligini aniqlandi va Ni (II) ni fotometrik
aniqlash metodikasi ishlab chiqildi.
Ni(CH
3
COO)
2
·
4H
2
O tuzidan nikel (II) ni 1,00 mg/ml li standart eritmasi
tayyorlab olindi. Ishchi eritmalar esa har bir ish oldidan 1,00 mg/ml standart
eritmasidan alikvot qism olib suyultirib tayyorlandi. Ishda 0,05% va 0,01% li PAN
reagent eritmalaridan foydalanildi. Bufer eritma sifatida рН sig’imi 2,0 dan 11,50
bo’lgan universal bufer eritma ishlatildi. O’zgaruvchan konsentrasiyali eritmalarning
optik zichliklari KFK-2 da
qalinligi
=1,0 sm li kyuvetalarda o’lchandi.
Аniqlanayotgan eritmaning рН ko’rsatgichi рН/mV/-TEMP METER P25
(Jan.Koreya) рНmetri yordamida aniqlandi.
Har bir modda o’ziga xos tabiatiga ko’ra ma’lum to’lqin uzunlikdagi nurni yutadi.
Shuni inobatga olib, Ni(II) ionini PAN ning 0,05 % li suv-spirtdagi eritmasi
yordamida hosil qilingan kompleksning eng yuqori nur yutish sohasi topildi.
Kompleks birikma 6-nur filtri
=540 nm da yuqori optik zichlikni namoyon qildi.
Keyingi ishlar
=540 nm da olib borildi. Ushbu ishda Ni (II) ning PAN bilan
hosil qilgan kompleksining optimal nur yutish sohasi o’rganildi va olingan natijalarga
ko’ra 6-nur filtrida maksimal optik zichlikka erishildi. Reaksiyaning amaliy jihatidan
oxirigacha borishi eritmaning pH iga bog’liqligini hisobga olib, Ni(II) ning PAN
Do'stlaringiz bilan baham: |