Осаждение материала на подложке - Microsoft Word уп-пленки doc Подложка - Т. В. Свистова основы микроэлектроники учебное пособие Номер подложки - технологические вопросы изготовления полупроводниковых пленок с аномально высокими фотонапряжениями Механизм проникновения ионов в подложку - Изготовление самосовмещенного Конструктор
.
2.
В группе
Подложки - Руководство для выполнения практических работ по дисциплине: «анализ и проектирование бизнес систем» -Тема. Виды эпитаксии, способы выращивание. Подготовка подложки - Учебно-методический комплекс по предмету наноэпитаксиальные слои и гетеросистемы Ташкент-2022 год. Данный учебный материал предназначен для магистров специальности «Нанотехнология полупроводниковых материалов» Настраиваемая подложка - O„zbekiston Respublikasi oliy va o„rta maxsus ta‟lim vazirligi Toshkent Arxitektura Qurilish Instituti Подложка - И В. С. Ямпольсний о основы автоматики и электронно- вычислительной техники нститутов
Морфологии и фотоэлектрические свойства твердого раствора (GaAs)1-x 1-х(Ge2)x на подложках GaAs методом жидкофазной эпитаксии. Морфологические исследования показали, что наблюдаемые наноконусы на поверхности эпитаксиальных слоев (GaAs)1-х(Ge2)x могут быт связаны с примесными атомами Ge 282,5 Kb. 1